(Acoperire din spate conductivă): compusă de obicei din nitrură de crom pentru a reduce acumularea statică și pentru a facilita reținerea electrostatică.

Tehnologia litografiei este o parte vitală a producției de semiconductori de astăzi, iar gradul său avansat determină în mod direct performanța și calitatea producției de cipuri. Acest raport va introduce cea mai avansată tehnologie de litografie și va discuta despre transformarea acesteia de la tradițional la avansat.
I. TelHead de laEîntreprindere
În prezent, în domeniul tehnologiei litografiei, companiile lider includ în principal Olanda ASML, Japonia Nikon și Canon. Printre acestea, ASML este cel mai mare furnizor de mașini de litografie din lume, cu o cotă de piață de peste 90%. Tehnologia Extreme Ultraviolet (EUV) de la ASML este în prezent cea mai avansată tehnologie de litografie și este utilizată pe scară largă în fabricarea cipurilor.

II.ConvenţionalLitografieTtehnici
Tehnicile convenționale de litografie folosesc în principal ultraviolete (UV) sau ultraviolete profunde (DUV) ca sursă de lumină. Dezavantajul acestei tehnologii este că rezoluția este limitată, ceea ce face dificilă fabricarea cipurilor cu o precizie mai mare și lățimi de linie mai mici. În plus, tehnologia DUV necesită utilizarea măștilor de litografie costisitoare la fabricarea cipurilor avansate, crescând costurile de producție. Prin urmare, tehnologia litografică tradițională nu mai poate satisface nevoile actuale de fabricație a cipurilor.
II.Tehnologia EUV
Tehnologia EUV este un nou tip de tehnologie de litografie, sursa sa de lumină este ultravioletă extremă (EUV), lungimea de undă este de numai 13,5 nanometri, ceea ce este de peste 10 ori mai scurtă decât lungimea de undă a tehnologiei DUV. Aceasta înseamnă că tehnologia EUV are o rezoluție mai mare și o lățime de linie mai mică, ceea ce poate face posibile cipuri mai precise. În plus, tehnologia EUV necesită utilizarea unei singure mască pentru fabricarea de cipuri, ceea ce poate reduce semnificativ costurile de producție.

S-au înregistrat progrese semnificative în aplicarea tehnologiei EUV în fabricarea cipurilor. Potrivit IC Insights, tehnologia EUV a reprezentat 5% din piața globală de producție de cipuri în 2019, a crescut la 13% în 2020 și este de așteptat să atingă 31% până în 2024. Începând cu 2022, ASML a livrat mașini de litografie EUV la mai mult de 40 de producători de cipuri din întreaga lume, inclusiv companii cunoscute precum Samsung și Intel.


IV.Provocările tehnologiei EUV
Deși aplicarea tehnologiei EUV în fabricarea cipurilor s-a dezvoltat rapid, se confruntă în continuare cu unele provocări. În primul rând, prețul echipamentului tehnologiei EUV este mare, iar prețul unei mașini de litografie EUV poate ajunge la zeci de milioane de dolari sau chiar mai mult, ceea ce este inaccesibil pentru unele întreprinderi mici de producție de cipuri. În al doilea rând, stabilitatea și fiabilitatea tehnologiei EUV trebuie încă îmbunătățite, necesitând surse de lumină și măști de calitate superioară, precum și proiectarea și fabricarea mașinilor de mai mare precizie. În plus, eficiența de producție a tehnologiei EUV trebuie îmbunătățită, iar capacitatea de producție orară actuală este departe de a satisface nevoile producției de cipuri la scară largă.

V. Perspectivă de viitor
Deși tehnologia EUV se confruntă în continuare cu unele provocări, a devenit o tendință majoră în domeniul actual de fabricare a cipurilor, iar perspectivele de dezvoltare viitoare sunt promițătoare. Odată cu dezvoltarea continuă a științei și tehnologiei, prețul echipamentelor pentru tehnologia EUV va scădea treptat, stabilitatea și fiabilitatea vor fi, de asemenea, îmbunătățite, iar eficiența de fabricație va fi îmbunătățită. În plus, în viitor pot apărea tehnologii de litografie mai avansate, cum ar fi litografia pe bază de cristal fotonic și tehnologia de auto-asamblare, care se așteaptă să îmbunătățească în continuare precizia de fabricație și eficiența producției de cipuri.
În concluzie, dezvoltarea tehnologiei litografiei este crucială pentru industria semiconductoarelor, iar tehnologia EUV, ca cea mai avansată tehnologie de litografie, a fost utilizată pe scară largă și va continua să fie una dintre principalele tendințe în fabricarea de cipuri în viitor.